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北京冠金利新材料科技有限公司为您供应高纯铟靶材及铟的相关镀膜产品，主要包括：
1、高纯铟靶:本公司供应适合于辉光放电溅射、射频辉光溅射、磁控溅射、离子束溅射、离子镀用的高纯铟靶材。
2、高纯铟靶材纯度为：99.9%，99.99%，99.999%，99.9999%，99.99999%
3、高纯铟靶材的规格：（1）平面靶材如Ø100*5mm平面高纯圆铟靶，150*100*3平面高纯板铟靶材，（2）磁控溅射用高纯铟靶：Ø100*120柱靶等。
4、高纯铟靶的原材料生产工艺：真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等。
5、高纯铟靶材加工工艺：车，铣，等。
6、高纯铟丝：常用直径为0.1-3mm
7、蒸发镀高纯铟片
以上是北京冠金利新材料科技有限公司对高纯铟靶的相关介绍，高纯铟靶材规格尺寸可根据客户要求定做，也可按图纸加工，如有疑问，请来电咨询！
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