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1、供应辉光放电溅射铜靶材金靶材银靶材、射频辉光溅射铜靶材金靶材银靶材、磁控溅射铜靶材金靶材银靶材、离子束溅射铜靶材金靶材银靶材、离子镀用铜靶材金靶材银靶材。
2、高纯铜靶材金靶材银靶材纯度为：99.9%，99.99%，99.999%，99.9999%。
3、高纯铜靶材金靶材银靶材靶材的规格：（1）平面靶材如直径76.2厚度3-5mm平面高纯圆靶靶材，400*100*6平面高纯铜靶材金靶材银靶材（2）磁控溅射用高纯铝靶：Ø100*120柱靶等。
4、高纯铜靶材金靶材银靶材的生产工艺：真空熔炼，消失模熔融铸造，低温锻造等变形处理、热处理、数控加工。