液晶基板蚀刻 PR前清洗设备

发布日期 :2010-04-30 09:02 编号:385103 发布IP:121.227.133.93
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苏州华林科纳半导体设备技术有限公司
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1.全程工艺采用PLC控制,触摸屏操作。设备槽体实现了腐蚀或后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗祛除功能。它由安装在槽体底部的快排阀、DI注入孔(包括氮气鼓泡)及顶部左右两侧的DI喷嘴实现槽体的快速注入与排放。
2.设备快排冲洗槽(QDR)的工作过程由独立K200型专用控制器保证。它包括工艺时间、冲洗次数设置、工作完成提示以及过程中的故障报警、状态提示等功能。

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