名称:TEM用纯Si薄膜窗
编号:TEM
产品详情:
TEM用纯Si薄膜窗
纯硅薄膜窗特点
纳米级厚度:薄膜厚度为5-15nm,比目前无定形碳薄膜窗口还薄,为高倍成像减少了背景干扰;
清洗:采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量;
均匀性:减少了不同区域的不均匀性;
稳定性:高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, >1000℃ for nanoporous);
减少污染:彩色污染仅为C膜的一半;
纳米孔:为纳米尺寸材料提供稳定的成像,无背景干扰;
Si成分:溅镀沉积、纯的Si;
最小的背景信号:可对含Ni或C样品进行元素分析;
纯硅薄膜窗规格
单窗口系列
窗口类型 薄膜厚度 窗口尺寸 框架尺寸 框架厚度 报价/USD
5nm 25x25µm Φ3mm 100µm ¥290.00
30nm 500x500µm
纳米孔10-60nm Φ3mm 100µm ¥325.00
多窗口系列
窗口类型 薄膜厚度 窗口尺寸 框架尺寸 框架厚度 报价/USD
5nm 2x1阵列,50X1500µm Φ3mm 100µm ¥290.00
9nm
/15nm 2x1阵列,100X1500µm Φ3mm 100µm ¥250.00
¥210.00
5nm 2x1阵列,100X100µm Φ3mm 200µm ¥290.00
9nm
/15nm 2x1阵列,100X1500µm Φ3mm 200µm ¥250.00
¥210.00
5nm 3x3阵列,8个窗口50X50µm,
1个窗口50X100µm Φ3mm 100µm ¥290.00
5nm
/9nm 3x3阵列,8个窗口100X100µm,
1个窗口100X350µm Φ3mm 100µm ¥290.00
¥250.00
9nm 3x3阵列,8个窗口100X100µm,
1个窗口100X350µm Φ3mm 200µm ¥250.00
15nm 3x3阵列,8个窗口100X100µm,
1个窗口100X350µm Φ3mm 100µm ¥210.00
30nm 3x3阵列,8个窗口100X100µm,1个窗口100X350µm;纳米孔10-60nm Φ3mm 100µm ¥250.00
15nm 3x3阵列,窗口100X100µm Φ3mm 200µm ¥210.00