薄壁PFA日本大金 AP-211SH高纯度 延展性好 半导体

耐化学性：

PFA AP-211SH 具有的耐化学腐蚀性，能够抵抗强酸、强碱、有机溶剂和氧化剂的侵蚀。

在 90°C 的浓中浸泡 1000 小时后，其抗拉强度保持率仍超过 95%。

耐高温性：

长期使用温度范围达 -200°C 至 +260°C，短期耐温甚至可达 300°C，远超普通工程塑料。

适用于高温腐蚀性介质（如热、PFA 衬里管道）。

机械性能：

抗拉强度达 28-32MPa，断裂伸长率超过 300%，能承受晶片花篮在自动化搬运中的机械应力。

具有良好的抗蠕变性和压缩强度，拉伸强度高，伸长率可达 100-300%。

加工性能：

熔体流动速率（MFR）为 14-18g/10min（372°C/5kg），兼具高流动性与低收缩率（约 1.5%），适合复杂薄壁件注塑。

可以通过挤出、注塑、吹塑等多种加工方法成型。

电气性能：

介电常数（2.1）和损耗因子（0.0002）极低，满足高频电子器件的绝缘要求。

优异的电绝缘性和耐辐射性能，适合高频率、高电压环境（如电缆绝缘、半导体设备）。

纯度与低析出：

通过特殊的聚合工艺将金属离子含量控制在 ppb 级（如钠、钾、铁等均低于 0.1ppm），避免污染硅片。

低析出特性（经测试在超纯水中浸泡后总有机碳释放量其他特性：

摩擦系数低，耐磨性较好。

具有非常出色的难燃性（极限氧指数 95Vol%，UL94V-0）。

表面光滑，减少颗粒污染，适用于防污、抗沉积涂层（如不粘锅、反应釜衬里）。

半导体制造：

用于制造晶圆加工设备中的蚀刻槽、CMP（化学机械抛光）管道、超纯化学品储罐等。

用于半导体封装中的绝缘膜、载带等部件。

化工行业：

用于制造化工设备、管道、阀门等，能够抵抗各种强酸、强碱和有机溶剂的侵蚀。

电子电气：

用于制造高频电缆绝缘层、电子零件等，利用其高绝缘电阻和低介电常数。

其他领域：

医疗器械：导管、生物反应器衬里等。

食品加工：奶制品管道、制药设备等（符合 FDA 标准）。

分析仪器：色谱柱、流体控制系统等。