Hastelloy C2000是新型NI-CR-MO合金，以C4合金为基础提高了铬的含量，并加入了铜，大大提高了合金耐yang化性和还原性介质的腐蚀能力，是目前本系列内耐H2SO4腐蚀很好的合金,但耐晶间腐蚀不如C4。所以，如在H2SO4环境下使用本合金是可行的。
对应牌号：
化学性能：
物理性能：
应用领域：
主要用于即存在yang化又存在还原性腐蚀介质的化学加工设备和部件，如反应器，热交换器、阀、泵、紧固件等，本合金更加适用于HFsuan生产和使用中含fu物催化剂的环境。
Hastelloy C2000在瞬断区,还伴随一定程度的蠕变损伤。对于断裂后的试样,[001]取向断口几乎与应力轴垂直,γ’相沿着与应力轴垂直的方向形筏,易在不同滑移平面上发生多系滑移;[011]取向断口不平整,γ’相沿与应力轴45°的方向形筏,易开动同一族的滑移系;[111]取向断口为凹凸不平,没有明显的形筏方向,易发生多系滑移以及不同族滑移系间的交滑移。对于[001]和[011]取向合金,二次裂纹易沿形筏方向扩展,而[111]取向合金,易在裂纹扩展平mian相交的界面处形成二次裂纹,并沿某一扩展平面扩展。观察位错组态变化的结果表明:合金的三种取向在应变幅较高时,循环起始阶段都表现出初始循环软化的特征。但当应变幅较低时,[001]取向中位错不均匀地分布在与应力轴垂直的γ通道中,通过交滑移和攀移的方式运动,由位错湮没和重排引起的位错回复过程以及γ’相的粗化起主要作用,使其表现出初期的循环软化特征;[011]取向位错滑移主要集中在屋顶通道,γ通道中大量的平行位错带,降低位错相互作用的几率,阻碍位错运动,表现出初期的循环硬化特征;[111]取向位错密度增大且分布均匀,位错线排列不规则,γ通道中有大量位错缠结,增大位错运动的阻力,表现出初期的循环硬化趋势。