金属靶材

我公司供应各种形状，密度，高纯度磁控溅射靶材：
　　溅射靶材（纯度：99.9%-99.999%）
　　1. 金属靶材：
　　镍靶、Ni靶、钛靶、Ti靶、锌靶、Zn靶、铬靶、Cr靶、镁靶、Mg靶、铌靶、Nb靶、锡靶、硅靶、Si靶、铜靶，Cu靶、钽靶，Ta靶、锗靶、Ge靶、银靶、Ag靶、钴靶、Co靶、金靶、镧靶、La靶、钇靶、Y靶、铈靶、Ce靶、、铪　　2.陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶，氧化镁靶、氧化铁靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、硫化镉靶，硫化钼靶，二硼化钛靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。
(Bi) -铋 合金溅射靶材 : Bi-Sn, Bi-Fe alloy e.t.c
B) 硼 合金溅射靶材: 钴-铁-硅-硼 合金等
Cobalt (Co) - 钴 合金溅射靶材: Co-Fe, Co-Fe-Si, Co-Sm, Co-Ni, Co-Cr e.t.c
Cerium (Ce) - 铈 合金溅射靶材: Ce-Gd e.t.c
Copper (Cu) - 铜 合金溅射靶材: Cu-Al, Cu-Ag, Cu-Mg e.t.c
Chromium (Cr) - 铬 合金溅射靶材: Cr-Fe, Cr-Ni, Cr-Al e.t.c
Gadolinium (Gd) -钆 合金溅射靶材: Gd-Fe, Gd-Mg alloy e.t.c
Germanium (Ge) - 锗 合金溅射靶材: Ge-Te alloy e.t.c
Hafnium (Hf) -铪 合金溅射靶材: Hf-Al, Holium (Ho) -钬 合金溅射靶材: Ho-Cu alloy e.t.c
Indium (In) -铟 合金溅射靶材: In-Sn, Magnesium (Mg) -镁 合金溅射靶材: Mg-Cu, Mg-Al e.t.c
Manganese (Mn) -锰 合金溅射靶材: Mn-Fe alloy e.t.c
Molybdenum (Mo) - 钼 合金溅射靶材: Mo-Al, Mo-Nb, Mo-V, Mo-Ta, Mo-W alloy e.t.c
Neodymium (Nd) - 钕合金溅射靶材: Nd-Al, Pr-Nd, Nd-Ag alloy e.t.c
Nickel (Ni) -镍合金溅射靶材: Ni-Cr, Ni-Ti, Ni-Fe, Ni-Mn, Ni-Al, Ni-V alloy e.t.c
Praseodymium (Pr) -镨合金溅射靶材: Pr-Nd alloy alloy e.t.c
Silicon (Si) -硅合金溅射靶材: Si-Al alloy alloy e.t.c
Silver (Ag) -银合金溅射靶材: Ag-Cu, Ag-Al alloy e.t.c
Tantalum (Ta) -钽合金溅射靶材: Ta-Nb, Ta-Al, Ta-W alloy e.t.c
Titanium (Ti) -钛合金溅射靶材: Ti-Ni, Ti-Nd, Ti-Al, Ti-W alloy e.t.c
Tin (Sn) -锡合金溅射靶材: Sn-Zn e.t.c
Tungsten (W) -钨合金溅射靶材: W-Ti, W-B, W-Al, W-Ta alloy e.t.c
Yttrium (Y) -钇合金溅射靶材: Y-Al, Y-Hf, Y-Zr alloy e.t.c
Zirconium (Zr) -锆合金溅射靶材: Zr-Y, Zr-Al alloy e.t.c
Zinc (Zn) -锌合金溅射靶材: Zn-Mg, Zn-Mg-Cu, Zn-Al alloy e.t.c