Nisene自动塑封开封机-Jetetch II

自动塑封开封技术的世界
Nisene公司(前身是B&G International)作为自动塑封开封技术的世界, 可以提供全面的产品,方法和技术支持来满足所有半导体器件的开封要求.
Nisene公司承诺提供创新的, 高质量的产品来满足半导体器件失效性分析领域内不断变化的需求. 我们的任务就是持续提供我们的产品和服务来满足我们客户的需求, 并且提供最快的,最的,可重复的和安全的开封技术, 这个目标只有自动塑封开封技术才可能实现.
Jetetch II自动塑封开封机
Nisene公司为全世界的客户在半导体器件失效分析领域提供几种解决方案. 1980年, 第一台自动塑封开封机的问世以来, Nisene不断改进他们的自动塑封开封机, 型号也从250, 350, D-cap,发展到现在，最新的型号为Jetetch II.
Jetetch II自从1999年在新加坡Semicon§展会上首次展出以来，得到了广泛的欢迎。其显著的特点为：

用户可以自己设定硝酸和硫酸混合比,比例设定范围很宽,多达13种§
温度可以设定，范围为20-250§度
两种刻蚀模式: 脉冲式和往复式
特有的往复式刻蚀模式可以做到用更少的酸,以更快的速度来开封
刻蚀剂流量调节：可连续调节从1.0 到6.0 毫升每分钟
可以存贮100组刻蚀程序，随意调取
刻蚀时间：10秒到1800秒，以1秒增加
刻蚀头终身保用
刻蚀头可以设计成分体的,可以根据不同样品进行更换刻蚀头(选件)
专利泵的设计可以实现抽吸双向的功能
可以对废酸进行分流处理避免潜在的危险
安全的设计, 使得酸瓶更加容易更换
CE认证和SEMI S-2认证


OmniEtch芯片逐层去除系统
Nisene公司很高兴宣告最新的,的利用湿法刻蚀来达到芯片逐层去除的新产品---- OmniEtch§芯片逐层去除系统. 其特点:
用户可以自行选定刻蚀用化学品, 刻蚀时间, 刻蚀温度.
刻蚀速度可以设定
具有样品观察窗
刻蚀剂用量少
样品放置简单
控制铝, 铜, 氧化物, 和其他金属的刻蚀
兼容大多数酸性和基本的化学品
可以逐层去除芯片
专利的刻蚀介质
不会对样品造成热和机械的损伤
CE and SEMI S-2 认证