磁控蒸发双用镀膜机

CYCE-1600磁控蒸发双用镀膜设备
磁控蒸发双用镀膜设备同时配备高效的电阻加热蒸发装置和先进的圆柱磁控溅射装置，加热蒸发镀膜技术和磁控溅射镀膜技术的有效结合，使设备的适用范围更广，可得到多种不同性能的膜层。适用在塑料、陶瓷、金属等材质上镀制仿金膜、铝膜、装饰镀膜、多层功能膜（如：EMI电磁屏蔽膜）等等。更换不同的靶材，如：铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等。可得到不同的膜系，如超硬、耐磨、防腐的合金膜等。设备采用独特的双门结构，使工件及镀料的装卸与镀膜同时进行，大大提高了工作效率。
技术参数：
（1）极限真空8×10-4pa（洁净空载新机）
（2）抽速：从大气到5×10-3pa≤15分钟（空载净室）
（3）总功率/平均功率：220KW/80KW
（4）外形尺寸：8000×7000×3300 mm（L×W×H）
（5）设备总占地面积：约56 m2
（6）使用电压： 220V/380V 50Hz
（7）冷却水：用于冷却的水亦以软水为宜，水压0.2～0.3Mpa，水温≤25℃，水量不小于10t/h
（8）气源：4～6kg/cm2，选用0.1立方的压缩机为宜