半导体硅片去膜/去胶/去蜡清洗机

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本设备可用于半导体工艺中对2″~8″硅片进行去膜处理，该产品技术先进、一致性强，适用于规模生产。2．整台设备材料均为进口。3．本设备为双排槽构成，每排7槽，各设一套机械手，两排可独立同时完成相应的工序。4．本设备除装片和取片需人工外，其余工艺动作均可自动完成。5．每槽装片能力：50片/批（2花篮，25片/花篮）。6．工作区洁净度：100级。7．槽间工艺转换时间：Tm ax≤3.5S