1、产品介绍
用于IP膜上照射等离子体给箔膜增加贴合力,可以先用等离子处理之后切边角或用检测机。有益于除去PI膜表面的有机物。
2、设备规格
基材种类 铜箔 (压延铜箔+Pl薄膜,电解铜
箔)
基材厚度 FCCL : 24 ~ 60㎛
铜箔 : 12 ~ 35㎛(压延铜箔,电
解铜箔)
Pl 薄膜 : 12 ~ 25㎛
基材宽度 Max. 540mm
导辊宽度 650mm
机械速度 10m/min
分切宽度 Max. 520mm