氮化硅薄膜窗口

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X-射线薄膜窗口能够实现软 X-射线（如真空紫外线）的最大透射率。X-射线越软，能量越低，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗口越薄。特别在“离轴”状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于 X 射线的更好穿透。现有技术一般采用计量式或ST氮化硅薄膜，但 或ST薄膜具有较高的残余应力，不够结实，容易破裂。而且基于 X-射线显微透射成像需要，氮化硅薄膜对软-X射线必须满足有较小的吸收。另一方面，有时我们会提到薄膜窗口透光性能，即视觉上其可以“透视”。如在透光显微镜下，薄膜只有超过一定厚度，透光性能才会减弱。在估算薄膜的透光性能时，应当注意吸收界限，如果需要考虑光学性能，吸收界应低于13nm，当吸收界限为13nm时，100nm厚的薄膜透光度为 44%；吸收界限为12.4nm时，透光度降为13%。
因此，在氮化硅薄膜窗口、支撑淡化过薄膜的衬底选择及薄膜、衬底的厚度控制上，以及氮化硅薄膜窗口的射线透过特性上，现有的氮化硅窗口都有缺陷。鉴于上述问题，本实用型设计一种X-射线显微镜透射成像用的窗口。
本实用新型涉及一种用于同步辐射X射线透射显微成像时承载工具，特别涉及一种 X 射线显微透射成像用窗口，包括控制厚度的硅晶片衬底、氮化硅薄膜窗口沟槽、控制厚度的低应力氮化硅薄膜，由于此种氮化硅薄膜窗口选用低应力氮化硅薄膜，比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。本实用新型氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域。例如，X-射线（光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。氮化硅薄膜窗口成膜光滑，强度大、致密性好，表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X-射线应用没有任何影响；可应用于高温领域，能够承受 1000 度高温，非常适合在硅晶片衬底表面利用CVD方法生长各种纳米材料；具备较好的薄膜窗格透光性能。

氮化硅薄膜窗口系列（常规窗口，200um硅片厚度）
SN-LDE-505-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm
SN-LDE-510-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm
SN-LDE-515-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm
SN-LDE-520-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：200nm
SN-LDE-705-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：50nm
SN-LDE-710-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：100nm
SN-LDE-715-25 氮化