■主要特点:
● 产品颜色在牙白至橙棕,无毒、无孔隙、易加工。
● 纯度高达99.99%,表面致密,气密性好。
● 耐高温,强度随温度升高,2200℃达到最大值。
● 耐酸、碱、盐及有机试剂,高温与绝大多数熔融金属、半导体等材料不湿润、不反应。
● 抗热震性好,热导性好,热膨胀系数低。
● 电阻高,介电强度高,介电常数小,磁损耗角正切低,并具有良好的透微波和红外线性能。
● 在力学、热学、电学等等性能上有着明显的各向异性。
■产品应用
● 半导体单晶及III-V族化合物合成用的坩埚、基座:
原位合成GaAs 、InP 、GaP单晶的LEC系列坩埚。
分子束外延用的MBE系列坩埚。
VGF、VB法系列坩埚。
● 电子束源用的系列坩埚。
● 石英坩埚及舟皿等石墨器具上的涂层。
● MOCVD绝缘板。
● 金属熔炼蒸发坩埚等。