化学意义上纯水（液态的H2O）的理论电导率为18.3ΜΩ·cm。人们生产的纯水是达不道理论值的，但18ΜΩ·cm似乎是可以达到的，对于这种水，有的称为高纯水有的称为超纯水。现在制备超纯水的方法是将各种纯化水的新技术科学地结合起来，不仅能生产超纯水，而且变得非常容易。
一、制备超纯水设备产品介绍
MB-106UP为阶核子级抛光树脂, 是由核子级强酸型阳离子T-46Li 及核子级强碱型阴离子 A-33OH 以1:2 体积比的剂量比例 , 预先混合的混床级离子交换树脂,专门提供给超纯水系统抛光用，具有的交换容量及优越的物理特性。适合用于电子产业 ，生产半导体及映像管产业，实验室，激光，精仪器，医用行业等需要超纯水的行业，以及核电厂等使用。在**有数十家 核电厂使用我们的抛光树脂。
二、重要参数
T-46 (阳) | A-33 (阴) | |
型式(Type) | 强酸性阳离子交换树脂 (Strong acid Cation exchange resin) | 强碱性阴离子交换树脂 (Strong base Anion exchange resin) |
主体结构(Matrix Structure) | 苯乙烯(Cross linked polystyrene) | |
功能基 (Functional Group) | 基(Sulfonic acid) | 4级胺(Quaternary ammonium Type I) |
物理性貭(Physical Form) | 球状颗粒(Moist spherical beads) | |
离子型式(Ionic form supplied) | 氢(Hydrogen) | 氢氧(Hydroxide) |
粒径范围(U.sh in wet) | 16 to 50 | |
粒度范围 (Particle Size) | 0.3 to 1.2 mm | |
微粒含量(Fines Content) | 穿过US 50 Mesh小于0.5% (Less than 0.5% passing through 50 U.sh) | |
总交换容量 (Total Exch. Capacity) | 1.8 meq/ml minimum of 99% in hydrogen form | 1.0 meq/ml minimum of 90% in hydroxide form and less than 1% in chloride form |
PH范围 (pH Range) | 0 to 14 | |
允许温度 (Temp. Stability) | 120°C | 60°C |
溶解率 (Solubility) | Insoluble in all common solvents | |
溶出有机物(Organic leachable) | Less than 0.2 mg KMNO4 per ml of wet resin | Less than 0.2 mg KMNO4 per ml of wet resin |
密度Backwash settled density | Approx.750 gm/liter | |
不纯物(Impurities) | Fe=50 ppm(max) | |
Cu=50 ppm(max) | Cu=50 ppm(max) | |
Pb=50 ppm(max) | Pb=50 ppm(max) | |
球粒强度(Bead strength) | Avg. not less than 300g/bead by Chatillon test (ASTM Standard) | |
三、制备超纯水设备产品优势
1、具有交换容量及优越的物理特性
2、在**有数十家 核电厂使用我们的抛光树脂
3、MB-106UP为阶核子级抛光树脂, 是由核子级强酸型阳离子组成
四、制备超纯水设备使用场景
适合用于电子产业 ，生产半导体及映像管产业
实验室，激光，精仪器，医用行业等需要超纯水的行业
核电厂等使用
专门提供给超纯水系统抛光用
新兴的光电材料生产、加工、清洗，LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、**灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了*加严格的要求。
电子产业超纯水制备
半导体行业超纯水制备
