酸铜光亮剂

1、镀液容易控制，镀层填平度特佳，且镀层不容易产生针孔，内应力低，延展性极强。
2、电流密度范围宽阔，镀层填平度高达75%，电镀效果光亮。
3、沉淀速度特快，在4-5安培/平方分米的电流密度下，每分钟可镀出1微米的镀层，电镀时间因而缩短。
4、镀层电阻率低，故非常适合于对镀层物理性能要求高的电子行业。
5、应用于各种不同类型的基体金属，铜件、锌合金件、塑料件等同样适用。
6、杂质容忍量高，一般在使用一段长时间后才需用活性炭粉处理。