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概述：
针对化工、医药等行业产生的有机废气源复杂多变且浓度高的特点，低温等离子催化氧化工艺采用如下处理流程：
废气收集→预处理塔→除雾器→低温等离子→催化氧化→废气净化吸附塔
等离子体由正离子、负离子、电子和中性离子组成，在外加电场的作用下，放电产生的大量等离子轰击污染物分子，使其电离、解离和激发，转变为诸如CO2和 H2O等小分子安全物质，或其他低毒低害物质，从而使污染物得以降解去除。因其电离后产生的电子平均能量在1-10eV，适当控制反应条件可以实现一般情况下难以实现或速度很慢的化学反应变得十分快速。
在室温下，当波长在380mm以下的紫外光照射到半导体材料表面时，价带的电子被紫外光所激发，跃迁到导带形成自由电子，同时在价带形成带正电的空穴，从而形成电子-空穴对。电子-空穴对能产生氧化力极强的自由基，几乎可分解所有的有机物。
因此，在低温等离子放电的条件下，除了产生大量的等离子体外，还产生大量紫外线，由此激光半导体催化剂产生电子-空穴对并形成自由基，从而更有效地降解处理有机废气。
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