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金属靶材材质分为 镍靶 Ni 钛靶 Ti 锌靶 Zn 铬靶
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热压法 ITO靶材的热压制作过程是在石墨或氧化铝制的模具内充
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电导率σi和电子导电的电导率σe之比σi/σe≥0 01 具
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精铝经过区熔提纯 只能达到5 的高纯铝 但如使用在有机物电解
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为了减少靶材固体中的气孔 提高溅射薄膜的性能 通常要求靶材具
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电源供应装置通过一升降机构安装在机座上并与控制装置电连接 所
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导电辊包括导电辊的外层由至少部分导电性由离子导电性聚合物的组
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绑定的适用范围技术上来说表面平整可进行金属化处理的靶材都可以
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在传统产业的应用领域中 对于的需求也随着这些产业的兴衰而出现
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铜阳极泥是铜电解精炼的副产品 产率一般为电铜产量的0 2%~
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半导电胶辊通常用在复印机 电子传真装置等办公设备中 半导电胶
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各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路 VLSI) 光碟 平
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而未米的0 18um}艺甚至0 13m工艺 所需要的靶材纯度
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超纯金属 指的化学杂质和物理杂质 晶体缺陷) 含量的金属
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稀土矿冶炼方法有两种 即湿法冶金和火法冶金 湿法冶金属化工冶
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贵重金属回收指的是从一些特定材料中回收有再利用价值的金属废料
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针对高镍阳极泥碳酸钠焙 碱浸 酸浸所得脱铜渣中金银的碘化浸出
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在铂族金属的应用中 光学玻璃行业是铂的重要的应用领域 铂是制
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1 金属镀钯 镀钯铜提钯技术 首先把镀钯铜等表面镀钯料放入容
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背靶材料 无氧铜 OFC)– 目前常使用的作背靶的材料是无氧
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溅射技术 溅射是制备薄膜材料的主要技术之一 它利用离子源产生
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磁控溅射一般分为二种 直流溅射和射频溅射 其中直流溅射设备原
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